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SEM掃描電鏡材料樣品如何制備

日期:2025-07-25 13:35:35 瀏覽次數(shù):12

掃描電鏡通過(guò)電子束與樣品表面的相互作用,可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)形貌與成分分析,是材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的重要表征工具。然而,SEM掃描電鏡對(duì)樣品導(dǎo)電性、干燥度及穩(wěn)定性要求較高,需通過(guò)規(guī)范的制備流程確保成像質(zhì)量。本文將系統(tǒng)介紹不同類型材料樣品的制備方法,涵蓋導(dǎo)電樣品、非導(dǎo)電樣品、粉末樣品及生物樣品的處理細(xì)節(jié)。

一、通用制備流程

1. 取樣與清潔

取樣:根據(jù)研究需求截取樣品,塊體樣品需控制尺寸(通常小于5mm3),粉末樣品需少量分散。

掃描電鏡.jpg

清潔:

導(dǎo)電樣品:乙醇/丙酮超聲清洗5-10分鐘,氮?dú)獯蹈伞?/span>

非導(dǎo)電樣品:PBS緩沖液漂洗去除表面雜質(zhì),避免有機(jī)溶劑破壞結(jié)構(gòu)。

生物樣品:無(wú)菌操作下取樣,防止污染。

2. 固定與干燥

固定:使用導(dǎo)電膠(如銀膠)將樣品粘貼在掃描電鏡專用樣品臺(tái)上,確保與臺(tái)面電接觸良好,防止荷電效應(yīng)。

干燥:

常規(guī)樣品:真空干燥箱(60℃, 2小時(shí))或自然晾干。

含水/易揮發(fā)樣品:臨界點(diǎn)干燥(CO?置換乙醇)或冷凍干燥,避免表面塌陷。

二、分類型樣品制備

1. 導(dǎo)電樣品(金屬、半導(dǎo)體等)

特點(diǎn):本身導(dǎo)電性好,無(wú)需復(fù)雜處理。

步驟:

清潔后直接固定于樣品臺(tái)。

可選鍍膜:濺射鍍金/鉑(厚度10-20nm),提升二次電子發(fā)射率,增強(qiáng)圖像對(duì)比度。

2. 非導(dǎo)電樣品(陶瓷、聚合物等)

特點(diǎn):易積累電荷,需導(dǎo)電處理。

步驟:

清潔后固定于樣品臺(tái)。

導(dǎo)電處理:

濺射鍍膜:離子濺射儀鍍金/鉑/碳(厚度10-50nm),確保均勻覆蓋。

碳噴涂:碳蒸發(fā)儀噴涂薄碳層,適用于生物樣品。

粉末樣品:分散于導(dǎo)電膠帶,噴少量膠水固定,防電子束轟擊飛散。

3. 生物樣品(細(xì)胞、組織等)

特點(diǎn):含水量高,需化學(xué)固定與脫水。

步驟:

固定:2.5%戊二醛(PBS配制)4℃浸泡2-4小時(shí),保留結(jié)構(gòu)。

脫水:梯度乙醇(30%-****)各15分鐘,置換為乙酸異戊酯。

干燥:臨界點(diǎn)干燥或冷凍干燥,避免表面收縮。

導(dǎo)電處理:鍍金(厚度10-20nm),觀察面朝上粘貼于鋁板。

三、關(guān)鍵注意事項(xiàng)

1. 避免污染與損傷

全程戴手套操作,使用潔凈鑷子、培養(yǎng)皿。

生物樣品避免過(guò)度脫水,防止結(jié)構(gòu)變形。

2. 導(dǎo)電處理均勻性

鍍膜時(shí)控制厚度,過(guò)厚會(huì)掩蓋表面細(xì)節(jié),過(guò)薄則無(wú)法消除荷電效應(yīng)。

粉末樣品需分散均勻,避免團(tuán)聚。

3. 樣品固定穩(wěn)固性

塊體樣品用導(dǎo)電膠全覆蓋接觸面,粉末樣品刷碳膠加固。

生物樣品干燥后立即觀察,防止吸濕返潮。

4. 儀器適配性

場(chǎng)發(fā)射SEM(FE-SEM)可低電壓(1-5kV)成像,減少非導(dǎo)電樣品鍍膜需求。

真空環(huán)境要求樣品J對(duì)干燥,含溶劑樣品需徹底揮發(fā)。

四、常見(jiàn)問(wèn)題解答

Q1:非導(dǎo)電樣品能否不鍍膜直接觀察?
A:可嘗試低電壓(<5kV)或場(chǎng)發(fā)射SEM,但成像分辨率可能下降,建議鍍膜以確保質(zhì)量。

Q2:生物樣品為何需要臨界點(diǎn)干燥?
A:常規(guī)干燥因表面張力易導(dǎo)致結(jié)構(gòu)塌陷,臨界點(diǎn)干燥通過(guò)CO?置換液體,實(shí)現(xiàn)無(wú)損傷干燥。

Q3:粉末樣品如何避免污染儀器?
A:控制粉量,用洗耳球吹散浮粉,固定后輕敲樣品臺(tái)去除未粘牢顆粒。

SEM掃描電鏡樣品制備需結(jié)合材料特性調(diào)整流程:導(dǎo)電樣品簡(jiǎn)化處理,非導(dǎo)電樣品側(cè)重導(dǎo)電覆蓋,生物樣品強(qiáng)調(diào)結(jié)構(gòu)保留。通過(guò)規(guī)范取樣、清潔、固定、干燥及導(dǎo)電處理步驟,可顯著提升成像質(zhì)量,為材料表征與機(jī)理分析提供可靠數(shù)據(jù)支持。

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