掃描電鏡能夠測出線寬的真實長度。但要實現(xiàn)這一功能，需要滿足一定的條件和步驟：

SEM掃描電鏡設備的應用：掃描電鏡自問世以來，已成為許多科學和工業(yè)領域的重要研究工具。特別是在半導體行業(yè)，SEM掃描電鏡的定量應用主要體現(xiàn)在測量或計量上。隨著技術(shù)的發(fā)展，CD-SEM（Critical Dimension Scanning Electron Microscope，關(guān)鍵尺寸掃描電子顯微鏡）已被用作半導體加工生產(chǎn)線上的主要測量工具，用于監(jiān)控生產(chǎn)過程。

測量步驟：

標定尺度：在掃描電鏡下選擇一個需要測量的對象，如線寬。然后，在掃描電鏡軟件中打開測量工具，并選中“標尺”或“標度”工具。在圖像中選擇一段已知長度的線段，并在軟件中設定其實際長度。根據(jù)已知長度和圖像顯示的長度計算出比例系數(shù)。

選擇測量工具：使用主流的掃描電鏡軟件提供的線段長度測量工具，根據(jù)已進行的標度尺尺度標定得到實際長度值。

設置參數(shù)：根據(jù)需要設置分辨率、照射電壓、放大倍數(shù)和顯示單位等參數(shù)。這些參數(shù)的選擇會影響測量的精度和效率。

進行測量：在圖像中選擇需要測量的部位，進行測量并記錄結(jié)果。

測量精度：大部分SEM掃描電鏡實驗室對于納米尺寸的準確測量要求可能不那么嚴格，例如線寬或顆粒大小的具體數(shù)值（如105nm或95nm）可能不是*重要的。但在半導體領域，這樣的誤差是不可接受的。因此，為了獲得更高的測量精度，需要選擇適合的掃描電鏡設備和測量方法，并進行準確的尺度標定和參數(shù)設置。

綜上所述，SEM掃描電鏡能夠測出線寬的真實長度，但需要滿足一定的條件和步驟。在半導體等領域，通過使用CD-SEM等高精度設備和方法，可以獲得更加準確和可靠的測量結(jié)果。